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Background-guided sub-regional phase histogram equalization correction for saturation-induced phase error
DOI:10.1016/j.optlastec.2025.114050.png)
摘要
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条纹投影 profilometry 中的强度饱和会扭曲理想的条纹图案,进而引入大的相位误差。本文提出了一种基于背景的子区域相位直方图均衡化(BSPHE)方法来校正饱和引起的相位误差,该方法考虑了非均匀饱和和严重饱和问题。提出了一种基于背景的饱和掩模策略,利用背景强度提取连续的饱和区域,然后使用背景光的包络将该区域分割为轻微饱和和深度饱和子区域。同时,采用基于傅里叶变换(FT)的低通滤波器来抑制严重饱和引起的高阶谐波。子区域相位直方图均衡化被提出用于校正非均匀相位误差,通过对两个饱和子区域分别应用移相直方图均衡化来实现。仿真和实验验证了所提出的BSPHE方法在减少饱和引起的相位误差方面的有效性,并表明其比全场相位直方图均衡化方法能实现更高的精度。
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