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Block-based inverse lithography technology with adaptive level-set algorithm
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AI
DOI：10.1016/j.optlastec.2024.112211.png)
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摘要
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逆向光刻技术（ILT）是一种关键的计算光刻方法，旨在反向优化光罩图案以补偿先进光学光刻工艺中的图像失真。传统ILT算法虽然在显著提升图像质量方面具有能力，但给计算效率与光罩可制造性带来了挑战。为克服这些问题，本文提出了一种由水平集算法驱动的基于块的新型ILT方法。该方法利用具有水平集支持区域的重叠基块进行光罩表示，从而降低光罩复杂度。为规避由库朗-弗里德里希斯-勒维条件（Courant-Friedrichs-Lewy condition）的常规欧拉时间步长所决定的缓慢收敛率，本研究采用Barzilai-Borwein算法使用自适应时间步长更新水平集函数，加速了优化过程。此外，建立了一个数字光刻系统测试平台，并通过校准成像模型验证了所提出的ILT方法。结果表明，所提出的方法在收敛速度和光罩可制造性方面优于广泛使用和当前最先进的ILT方法。
Keyword:
Inverse lithography technology
Mask manufacturability
Level-set
期刊
O
IF:
5
论文数:
2.7K
被引数:
3.5W
机构
引用论文
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