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Global alignment reference strategy for laser interference lithography pattern arrays
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AI
DOI：10.1038/s41378-025-00889-4.png)
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摘要
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大面积光栅在各个工程领域发挥着关键作用。然而，传统的干涉光刻受限于光学元件孔径的大小，使得大面积制备成为一项具有挑战性的任务。本文提出了一种采用全局对准参考策略制备激光干涉光刻图案阵列的方法。该方案能够对激光干涉光刻图案阵列的每个区域进行对准，包括相位、周期和倾斜角度。利用了两块参考光栅：一块与基板分离，另一块固定在基板上。为实现全局对准，通过交替移动光束和基板来调整曝光区域。在本实验中，制备了3×3区域的栅格阵列，由菲索干涉仪测量的-1阶衍射波前表现出良好的连续性。该技术能够在大基板上任何区域的干涉光刻图案阵列中实现高效、高精度的有效对准。此外，通过旋转基板，该技术还可作为制备各种类型周期性结构的通用技术。
Keyword:
HOLOGRAPHIC FABRICATION
NANOSTRUCTURES
EXPOSURE
GRATINGS
期刊
M
IF:
9.9
论文数:
1.3K
被引数:
6.7K
机构
暂无机构信息
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