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Grating mosaic error evaluation method based on dual-wavelength diffraction spot centroid analysis
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DOI：10.1364/AO.581525.png)
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摘要
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为满足大范围、高精度光栅位移传感和高能激光系统对大孔径光栅的需求，光栅拼接技术已成为关键的制造工艺。针对传统光栅拼接方法难以实现五维拼接误差的复合检测这一技术挑战，本文提出了一种基于双波长衍射斑质心分析的光栅拼接误差评估方法。通过建立五维拼接误差与衍射斑质心位移之间的定量映射模型，并利用双波长激光解耦混合误差信号，采用改进的质心定位算法提取斑点的质心坐标。这验证了拼接光栅的对准误差与衍射斑质心位置之间的线性关系。实验结果表明，该方法能够有效区分和测量光栅拼接过程中的角误差和位移误差。在CCD像素尺寸为2.4 μm的条件下，角误差的检测分辨率达到0.09 μrad，线性位移误差的检测分辨率为0.02 μm。这项工作为大规模拼接光栅制造中的多维误差复合检测提供了一种非接触解决方案，在大孔径光栅制造和基于光栅的位移传感领域具有显著的应用价值。(c) 2026 Optica Publishing Group. All rights, including for text and data mining (TDM), Artificial Intelligence (AI) training, and similar technologies, are reserved.
Keyword:
FIELD
FABRICATION
PHASE
INTERFEROMETER
DISPLACEMENT
COMPRESSOR
DIFFERENCE
REMOVAL
SENSOR
PERIOD
期刊
A
IF:
1.7
论文数:
1.0K
被引数:
5.1W
机构
引用论文
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