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High-Density Topological Defect Array by Two-Step Interference Photoalignment
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AI
DOI：10.1002/adma.72607.png)
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摘要
En 中文
通过向列相液晶（LC）可以创建拓扑缺陷，这对于产生具有轨道角动量的激光束具有重要意义。通过光取向，已通过投射空间光调制器或数字微镜设备图像的方式实现了缺陷阵列。然而，此类基于像素的方法严重限制了可实现的缺陷密度。在此，我们提出了一种基于两步干涉照明的可扩展方法，以实现更高的缺陷密度。在第一步中，通过两种圆偏振光束的干涉生成取向旋转图案。在第二步中，通过双光束干涉的振幅调制来重写图案并引入缺陷。通过调整两步中的照明剂量和入射角，可获得间距低至1.25微米的2D缺陷图案。对所得的失序线进行了分析，并通过数值模拟支持了所提出的结构。首次通过可扩展的两步光取向过程获得了高缺陷密度的缺陷网格。该方法实现了大角度衍射的光学元件，并弥合了液晶拓扑光学与超表面的差距。
Keyword:
grating
interference illumination
liquid crystal
photoalignment
topological defect
AI总结
对已上传原文的论文进行重点信息的提取，主要内容包括：简要概述、研究摘要、背景介绍、关键亮点、图文解析、展望与总结。
期刊
IF:
26.8
论文数:
3.4W
被引数:
46.0W
机构
引用论文
Far-field and Fresnel Liquid Crystal Geometric Phase Holograms via Direct-Write Photo-Alignment.png)
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