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Ion beam technology: From defect engineering to atomic-level doping
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DOI：10.1360/SSPMA-2025-0336.png)
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摘要
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二维材料及其他新材料的兴起为传统半导体产业注入了新的活力。传统的化学合成和机械加工方法往往难以实现对材料性能的精确控制，特别是在纳米尺度上，易引入不可控缺陷并破坏材料的固有特性。离子束技术凭借其独特的原子级操控能力和高精度加工特性，有望成为新材料和器件开发的关键手段。本文旨在系统综述离子束技术在缺陷工程、原子级掺杂和器件改性方面的最新进展，从离子束能量角度总结不同能量离子束的当前应用状况，并重点探讨低能离子注入在二维材料中的应用。最后，总结了低能离子束在二维材料领域面临的挑战，并讨论了团簇离子束在二维材料应用中的巨大潜力。
Keyword:
ion beam technology
two-dimensional materials
photoelectric devices
期刊
S
IF:
0.5
论文数:
58
被引数:
0
机构
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