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Optical Coating Deposition on Submicron-Patterned Surfaces
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OA
AI
DOI：10.3390/coatings15040372.png)
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摘要
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周期性调制的光学涂层，通过在调制基底上沉积共形薄膜制成，为光谱和空间滤波提供了独特能力。然而，传统的沉积方法通常无法在亚微米尺寸结构化表面上实现所需的复刻度和共形性。在本文中，我们比较了各种薄膜沉积技术，包括电子束蒸发、原子层沉积和离子束溅射，以评估它们在周期性调制基底上控制多层涂层生长的能力。我们的研究表明，由离子束溅射制备的单层和多层涂层能够有效复刻结构表面的初始几何形状，从而提升光学性能。
Keyword:
coatings
gratings
interference lithography
physical vapor deposition
atomic layer deposition
ion beam sputtering
electron beam evaporation
期刊
IF:
2.8
论文数:
2.8K
被引数:
2.7W
机构
引用论文
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