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Revisiting contact potential difference in electrostatic force microscopy
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OA
AI
DOI：10.1088/2399-6528/ae381f.png)
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摘要
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理解电静力力显微镜（EFM）中探针-基板相互作用对于实验数据的定量分析至关重要。本研究从实验和理论角度探讨了探针与基板之间接触电位差（VCPD）的作用。过去几十年中，已提出多种模型来描述探针-基板相互作用，通常假设探针表面为等势面。这些模型的一个共同特点是处理VCPD为外加电压VDC的附加电压。在EFM中，已有文献报道电压抛物线的非零顶点，但至今无法由理论解释。我们通过实验研究，探讨一种针对锥部和顶点具有不同贡献的模型是否能更好地解释实验数据。
Keyword:
electrostatic force microscopy
contact potential difference
tip-substrate interaction
nanoparticles
magnetic force microscopy
kelvin probe force microscopy
期刊
J
IF:
1.5
论文数:
39
被引数:
1.6K
机构
引用论文
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