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收藏Gas-dissolved water assisted post-CMP cleaning for removal of sub-10 nm fine ceria particles in oxide polishing processes气相溶解水辅助后CMP清洗,用于去除氧化物抛光工艺中的亚10纳米细氧化铈颗粒
Choi, Donghwan; Lee, Hyeonjeong; Liu, Pengzhan; Park, Byoung Yong; Moh, Doyoon; Kwon, Donghoon; Lee, Jinhyoung; Kim, Yechan; Jeon, Jongyeong; Kim, Hyunkyu; Ahn, Junmin; Kim, Taesung
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