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A

Arka Bikash Dey

Helmholtz Association
H指数:12
被引数:357

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教育背景

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荣誉奖项

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Chemistry and Interfacial Structure Promoting Quasi-van der Waals Epitaxial Growth of WS2 Nanosheets on Sapphire for Prospective Application in Field-Effect Transistors

化学和界面结构促进WS2纳米片在蓝宝石上的准范德华外延生长，以用于场效应晶体管的前景应用

ACS APPLIED NANO MATERIALS
IF5.5
2025-04-290
PRE
Majumder, S; Shinde, N; Cavin, J; Chen, C; Dey, AB; Narayanachari, KVLV; Zhang, JQ; Garcia-Wetten, D; Dieguez, O; Hettler, S; Cohen, A; Keane, DT; Arenal, R; Rondinelli, JM; Ismach, A; Bedzyk, MJ
Time-resolved x-ray diffraction and photoelectron spectroscopy investigation of the reactive molecular beam epitaxy of Fe3O4 ultrathin films

Fe3O4超薄膜反应性分子束外延的时间分辨x射线衍射和光电子能谱研究

PHYSICAL REVIEW B
IF3.7
2022-01-183
OA
Pohlmann, Tobias; Hoppe, Martin; Thien, Jannis; Dey, Arka Bikash; Alexander, Andreas; Ruwisch, Kevin; Gutowski, Olof; Roeh, Jan; Gloskovskii, Andrei; Schlueter, Christoph; Kuepper, Karsten; Wollschlaeger, Joachim; Bertram, Florian

研究方向

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M
M. K. Sanyal
H 指数:29论文数:185被引数:3,527
F
Florian Bertram
H 指数:21论文数:139被引数:1,506
D
D.K. Avasthi
H 指数:54论文数:665被引数:1.2万
I
I. Farrer
H 指数:53论文数:621被引数:1.0万
D
David Ritchie
H 指数:55论文数:559被引数:1.2万
M
Mukul Gupta
H 指数:34论文数:543被引数:4,970
A
A. Gloskovskii
H 指数:33论文数:268被引数:4,300
M
Michael J. Bedzyk
H 指数:64论文数:462被引数:1.6万
C
Christoph Schlueter
H 指数:31论文数:182被引数:3,237
V
Vipin Chawla
H 指数:25论文数:104被引数:1,652