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收藏Comparative Study on the Quality of Microcrystalline and Epitaxial Silicon Films Produced by PECVD Using Identical SiF4 Based Process Conditions使用相同的基于SiF4的工艺条件通过PECVD制备的微晶和外延硅薄膜的质量的比较研究
Moreno, Mario; Ponce, Arturo; Galindo, Arturo; Ortega, Eduardo; Morales, Alfredo; Flores, Javier; Ambrosio, Roberto; Torres, Alfonso; Hernandez, Luis; Vazquez-Leal, Hector; Patriarche, Gilles; Cabarrocas, Pere Roca, I
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