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收藏Degradation of polycrystalline HfO2-based gate dielectrics under nanoscale electrical stress (vol 99, 103510, 2011)
Iglesias, V.; Lanza, M.; Zhang, K.; Bayerl, A.; Porti, M.; Nafria, M.; Aymerich, X.; Benstetter, G.; Shen, Z. Y.; Bersuker, G.
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收藏Degradation of polycrystalline HfO2-based gate dielectrics under nanoscale electrical stress纳米尺度电应力下多晶HfO2-based栅介质的退化
Iglesias, V.; Lanza, M.; Zhang, K.; Bayerl, A.; Porti, M.; Nafria, M.; Aymerich, X.; Benstteter, G.; Shen, Z. Y.; Bersuker, G.
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