T
Tie-Gang Wang
H指数:23
被引数:1,681
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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偏置电压变化对CrAlSiN涂层微观结构和综合性能的影响
从电化学和模拟的角度研究氧化石墨烯和羟基化六方氮化硼对提高涂层耐腐蚀性的有效性
VACUUM
IF3.9
VACUUM
IF3.9
DALTON TRANSACTIONS
IF3.3
DALTON TRANSACTIONS
IF3.3
由三明治型过渡金属取代的钨酸盐和镍配位片段构成的新型2D层结构: {[Ni(enMe)2]2[Ni(enMe)2(H2O)]2[As2W18Ni4(enMe)2O68]}• 2H3O • 2H2O

