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收藏Investigation of Ge nanocrytals in a metal-insulator-semiconductor structure with a HfO2/SiO2 stack as the tunnel dielectric -: art. no. 113105
Wang, SY; Liu, WL; Wan, Q; Dai, JY; Lee, PF; Suhua, L; Shen, QW; Zhang, M; Song, ZT; Lin, CL
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