logo
科言猫学术研究的AI总结
language
手机端手机端
  • Phone Feature微信小程序
简体中文简体中文
notice消息通知
博客博客
arrow
B

Bart Weber

advanced research center for nanolithography
H指数:17
被引数:1,271

个人简介

暂无内容

教育背景

暂无内容

工作经历

暂无内容

荣誉奖项

暂无内容

The Surface-Topography Challenge: A Multi-Laboratory Benchmark Study to Advance the Characterization of Topography

表面形貌挑战：一项多实验室基准研究以推进形貌表征

Tribology Letters
IF3.3
2025-07-260
OA
A. Pradhan; M. H. Müser; N. Miller; J. P. Abdelnabe; L. Afferrante; D. Albertini; D. A. Aldave; L. Algieri; N. Ali; A. Almqvist; T. Amann; P. Ares; B. N. Balzer; L. Baugh; E. A. Berberich; M. Björling; M. S. Bobji; F. Bottiglione; B. Brodmann; W. Cai; G. Carbone; R. W. Carpick; F. Cassin; J. Cayer-Barrioz; M. I. Chowdhury; M. Ciavarella; E. Cihan; D. Huang; E. Delplanque; A. J. Deptula; S. Descartes; A. Dhinojwala; M. Dienwiebel; D. Dini; A. C. Dunn; C. Edwards; M. Eriten; A. Esawi; R. M. Espinosa-Marzal; L. Fang; A. Fatemi; C. Fidd; D. Gabriel; F. Gaslain; G. Giordano; J. Gómez-Herrero; L. Gontard; N. N. Gosvami; G. Greenwood; C. Greiner; T. Grejtak; A. Haroun; M. Hasan; S. Hoppe; L. Isa; R. L. Jackson; S. Jang; O. Johnson; F. Kaiser; M. Kalin; K. Kalliorinne; P. H. Karanjkar; S. H. Kim; S. Kinzelberger; P. Klapetek; B. A. Krick; C. Kumar; N. Kumar; S. Kumar; P. LaMascus; R. Larsson; P. Laux; M. J. Lee; P. M. Lee; W. Lee; C. Leriche; J. Li; Y. Li; Y. -S. Li; T. A. Lubrecht; I. A. Lyashenko; C. Ma; T. Ma; F. Maaboudallah; S. Mahmood; F. Mangolini; M. Marian; D. Mazuyer; Y. Meng; N. Menga; T. Miller; D. M. Mulvihill; M. Najah; D. Nečas; C. I. Papadopoulos; A. Papangelo; M. Pauli; B. N. J. Persson; A. Peterson; A. A. Pitenis; P. Podsiadlo; M. Polajnar; V. L. Popov; T. Požar; A. Prasad; G. Prieto; C. Putignano; M. H. Rahman; S. B. Ramisetti; S. Raumel; I. J. Reyes; N. Rodriguez; M. Rodríguez Ripoll; H. Rojacz; P. Sainsot; A. Samodurova; D. Savio; M. Scaraggi; F. Schaefer; S. W. Scherrer; K. D. Schulze; K. E. Shaffer; M. A. Sidebottom; D. Skaltsas; J. Soni; C. Spies; G. W. Stachowiak; L. Steinhoff; N. C. Strandwitz; K. Sun; S. Tripathi; W. R. Tuckart; S. Ugar; M. Valtr; K. E. Van Meter; J. Vdovak; J. G. Vilhena; G. Violano; G. Vorlaufer; M. Walczak; B. Weber; T. Woloszynski; M. Wolski; A. Yadav; V. A. Yastrebov; M. Yongjian; L. Yuan; J. Yus; J. Zhang; X. Zhang; Q. Zheng; L. Pastewka; T. D. B. Jacobs

研究方向

暂未获取到该数据
D
Daniel Bonn
H 指数:84论文数:555被引数:2.7万
S
Steve Franklin
H 指数:22论文数:69被引数:1,867
A
Albert M. Brouwer
H 指数:44论文数:269被引数:1.0万
F
Feng‐Chun Hsia
H 指数:13论文数:28被引数:731
C
Chen Xiao
H 指数:28论文数:143被引数:2,367
C
Cyrian Leriche
H 指数:4论文数:12被引数:60
R
Roland Bliem
H 指数:26论文数:96被引数:2,381
S
Stefan van Vliet
H 指数:5论文数:14被引数:75
D
Dina Petrova
H 指数:5论文数:10被引数:118
P
Pierre Audebert
H 指数:46论文数:288被引数:6,955