未登录Manufacturing Process and Characteristics of Silica Nanostructures for Anti-Reflection at 355 nm二氧化硅纳米结构在355 nm抗反射的制造工艺与特性
Gaertner, Anne; Muresan, Mihai-George; Muehlig, Christian; Herffurth, Tobias; Felde, Nadja; Wagner, Hanjoerg; Schulz, Ulrike; Bingel, Astrid; Schroeder, Sven; Mocek, Tomas; Tuennermann, Andreas
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收藏Structure of PECVD Si:H films for solar cell applications
Edelman, F; Chack, A; Weil, R; Beserman, R; Khait, YL; Werner, P; Rech, B; Roschek, T; Carius, R; Wagner, H; Beyer, W
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收藏Development of highly efficient thin film silicon solar cells on texture-etched zinc oxide-coated glass substrates
Müller, J; Kluth, O; Wieder, S; Siekmann, H; Schöpe, G; Reetz, W; Vetterl, O; Lundszien, D; Lambertz, A; Finger, F; Rech, B; Wagner, H
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收藏Intrinsic microcrystalline silicon:: A new material for photovoltaics
Vetterl, O; Finger, F; Carius, R; Hapke, P; Houben, L; Kluth, O; Lambertz, A; Mück, A; Rech, B; Wagner, H
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