H
Huaxing Sun
H指数:18
被引数:914
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
暂无内容
CHEMICAL SCIENCE
IF7.4
室温和100 °C下氮化硼薄膜的电子增强原子层沉积
用于高压阴极的涂层溶液: AlF3原子层沉积,用于具有高能量密度和出色柔韧性的独立LiCoO2电极
ADVANCED MATERIALS
IF26.8
使用嵌段共聚物调节基于石墨烯的场效应器件中的电子传输
SMALL
IF12.1
用于低温CO氧化的惰性Au纳米颗粒上的羟基诱导的氧活化
JOURNAL OF CATALYSIS
IF6.5

