未登录
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏Trimethylaluminum and Oxygen Atomic Layer Deposition on Hydroxyl-Free Cu(111)
Gharachorlou, Amir; Detwiler, Michael D.; Gu, Xiang-Kui; Mayr, Lukas; Kloetzer, Bernhard; Greeley, Jeffrey; Reifenberger, Ronald G.; Delgass, W. Nicholas; Ribeiro, Fabio H.; Zemlyanov, Dmitry Y.
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏
分享
收藏