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收藏Advanced CMOS device technologies for 45 nm node and below
Veloso, A.; Hoffmann, T.; Lauwers, A.; Yu, H.; Severi, S.; Augendre, E.; Kubicek, S.; Verheyen, P.; Collaert, N.; Absil, P.; Jurczak, M.; Biesemans, S.
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收藏Work function of Ni3Si2 on HfSixOy and SiO2 and its implication for Ni fully silicided gate applications
Kittl, J. A.; O'Sullivan, B. J.; Kaushik, V. S.; Lauwers, A.; Pawlak, M. A.; Hoffmann, T.; Demeurisse, C.; Vrancken, C.; Veloso, A.; Absil, P.; Biesemans, S.
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