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J

Jack Wratten

University of London
H指数:6
被引数:1,203

个人简介

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教育背景

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工作经历

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荣誉奖项

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The metal-ion-dependent adhesion site in the Von Willebrand factor-A domain of α2δ subunits is key to trafficking voltage-gated Ca2+ channels

Α2δ 亚基的Von Willebrand因子-A结构域中的金属离子依赖性粘附位点是运输电压门控Ca2通道的关键

PROCEEDINGS OF THE NATIONAL ACADEMY OF SCIENCES OF THE UNITED STATES OF AMERICA
IF9.1
2005-08-01208
OAAI
Cantí, C; Nieto-Rostro, M; Foucault, I; Heblich, F; Wratten, J; Richards, MW; Hendrich, J; Douglas, L; Page, KM; Davies, A; Dolphin, AC

研究方向

暂未获取到该数据
A
Anthony Davies
H 指数:32论文数:75被引数:4,031
A
Annette Dolphin
H 指数:77论文数:489被引数:2.0万
A
Alexandra Tran-Van-Minh
H 指数:12论文数:24被引数:2,162
M
Manuela Nieto‐Rostro
H 指数:17论文数:44被引数:4,142
J
Jan Hendrich
H 指数:8论文数:15被引数:1,680
L
L. Douglas
H 指数:3论文数:12被引数:425
F
Fay Heblich
H 指数:7论文数:15被引数:1,054
M
Mark W. Richards
H 指数:29论文数:65被引数:2,551
K
Karen M. Page
H 指数:37论文数:107被引数:6,121
J
Jörg Striessnig
H 指数:82论文数:313被引数:2.3万