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收藏Comparison of the Material Quality of AlxIn1-xN (x-0-0.50) Films Deposited on Si(100) and Si(111) at Low Temperature by Reactive RF Sputtering通过反应RF溅射在低温下沉积在Si(100) 和Si(111) 上的AlxIn1-xN (x-0.50) 薄膜的材料质量比较
Sun, Michael; Blasco, Rodrigo; Nwodo, Julian; de la Mata, Maria; Molina, Sergio, I; Ajay, Akhil; Monroy, Eva; Valdueza-Felip, Sirona; Naranjo, Fernando B.
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