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Lutz Stamp
atotech deutschland gmbh
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32
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IF
被引数
Stress and Strain Evolution in Electroless Copper Films Evaluated with X-ray Diffraction and Substrate Curvature
JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY
IF
3.3
2013-03-26
7
PRE
AI
Sharma, Tanu; Bruening, Ralf; Brown, Colby; Sibley, Allison; Etzkorn, Johannes; Stamp, Lutz
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合作学者
合作期刊
R
Ralf Brüning
H 指数: 28 · 论文数: 135
T
Tanu Sharma
H 指数: 14 · 论文数: 76
J
Johannes Etzkorn
H 指数: 9 · 论文数: 38
C
Colby Brown
H 指数: 7 · 论文数: 18
A
Allison Sibley
H 指数: 3 · 论文数: 9
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