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Jui-Ming Hua
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Application of an alternating phase-shifting mask design method to near-field photolithography for fabricating more than 2 GHz SAW devices
IEEE TRANSACTIONS ON ULTRASONICS FERROELECTRICS AND FREQUENCY CONTROL
IF
3.7
2007-10-01
4
PRE
AI
Lai, Fu-Der; Hua, Jui-Ming; Huang, Hao-Min
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F
Fu‐Der Lai
H 指数: 11 · 论文数: 41
H
Hao-Min Huang
H 指数: 3 · 论文数: 5
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