万静 (Jing Wan)
H指数:34
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个人简介
"万静,女,1971年6月出生,在四川大学获得工学硕士学位,电子科技大学获得工学博士学位,副教授,硕士生导师,主讲无机化学、无机化学实验、材料科学基础、材料化学综合实验等课程。主要从事电子信息材料、无机非金属材料、纳米功能材料方向的研究工作,对纳米粉体材料和薄膜材料的多方法制备和生长机理有深入研究,与中国科学院理化研究所建有长期合作关系,联合培养材料学方向硕士生。近年来,参加校级精品课程一门,主持校级重点教研项目一项。主研国家自然科学基金1项(金刚石膜用作X射线光刻掩膜的研究),主研省部级科研项目2项(铁电存储器的制备及性能研究;磁电耦合效应及片式天线研究),主持校级中央高校科研专项项目4项(铜基四元纳米晶的制备和应用研究;用做铁电储存器的稀土掺杂薄膜的制备及性能研究;高性能氧化铈抛光粉的制备和性能研究;高强度可切削性复合玻璃陶瓷的研制),在国内外重要学术期刊上发表科研论文约20多篇,其中有多篇被国际权威检索系统SCI和EI收录。\n二.代表性研究论文\n1.Renal-clearable quaternary chalcogenide nanocrystal for photoacoustic/magnetic resonance imaging guided tumor photothermal therapy ,Bomaterials, 2018,159:108-118\n2.annealing mechanism and effect of microwave plasma assisted post-annealing on crystallization and ferroelectric properties of sputtered Pb(Zr0.52Ti0.48)O3 thin films,Journal of Nanoscience and Nanotechnology,2016.3;\n3.The influence of the post-annealing temperature on the crystalline orientation and the crystallinity of PZT films,Advanced Materials Research Vols. 490-495 (2012);\n4. Calculation on the permittivity of the wollastonite ceramic matrix,Solid State Sciences 14 (2012) 1467-1470;\n5.Microstructure and properties of ZrO2-, TiO2-doped Ca–Si–Bbased ceramics,J. Mater Sci: Mater Electron (2012) 23;\n6.Dielectric and microwave properties of ZrO2doped CaO–SiO2–B2O3 ceramic matrix composites, Journal of Alloys and Compounds Volume 509 (2011)\n7.分段快速退火工艺对PZT薄膜结晶性能和铁电性能的影响,电子元件与材料2015.10;\n8.PZT多层膜的Pt/PZT界面层成分对薄膜结晶取向的影响,电子元件与材料2015.10;"
教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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