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Donald Lupo

tampere university
H指数:31
被引数:7,093

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Optimization of High-κ HfO2 Transistor Dielectrics by Atomic Layer Deposition as an Enabler of Novel Thin-Film Circuits and Sensors

通过原子层沉积优化高介电常数HfO2晶体管介质，作为新型薄膜电路和传感器实现的关键技术。

ADVANCED PHYSICS RESEARCH
IF2.8
2025-12-010
OAAI
Forouzmehr, Matin; Pourkheirollah, Hamed; Leite, Fabio; Howard, Elin; Behera, Sunil Kumar; Tewari, Amit; Laakso, Jarmo; Lahtonen, Kimmo; Laia, Cesar A. T.; Parola, A. Jorge; Marrec, Phillipe; Lupo, Donald; Berger, Paul. R.
Interfacial engineering of conformal titanium oxide nanofilms on porous carbon supercapacitor electrodes via atomic layer deposition

通过原子层沉积法对多孔碳超级电容器电极上致密钛氧化物纳米薄膜的界面工程化

Journal of Power Sources
IF7.9
2025-10-300
OAAI
Remuel Isaac M. Vitto; Hamed Pourkheirollah; Jari Keskinen; Steffen Vindt; Andrew Cook; Līga Grīnberga; Līga Ignatāne; Gints Kučinskis; Aleksandrs Volperts; Amit Tewari; Donald Lupo; Paul R. Berger; Matti Mäntysalo

研究方向

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J
Jari Keskinen
H 指数:21论文数:125被引数:1,271
S
Sampo Tuukkanen
H 指数:26论文数:73被引数:2,243
S
Suvi Lehtimäki
H 指数:16论文数:24被引数:765
P
Paul R. Berger
H 指数:32论文数:277被引数:3,723
H
Hamed Pourkheirollah
H 指数:4论文数:26被引数:74
M
Matti Mäntysalo
H 指数:33论文数:207被引数:4,375
A
Anna Railanmaa
H 指数:8论文数:12被引数:284
T
Tiina Vuorinen
H 指数:12论文数:21被引数:679
K
Kimmo Lahtonen
H 指数:23论文数:90被引数:1,748
P
Petri Heljo
H 指数:6论文数:15被引数:185