Jihoon Seo

酸性和碱性清洁溶液在浅 trench 隔离后化学机械抛光清洁中对氧化铈去除及刷子介导的交叉污染的作用

分子水平上对氨基酸添加剂对二氧化铈薄膜相互作用和STI-CMP选择性的影响机理

在化学机械抛光过程中铜-唑类界面处钝化和再钝化的原位电化学探针研究

选择性金属离子在PVAc聚合物刷上的吸附与负载在高级金属后CMP清洁中的化学机理

氧化铈粒子在先进半导体制造中后化学机械抛光PVA刷清洁过程中缺陷减少的再沉积机理研究

钼离子诱导的胶体二氧化硅在化学机械平坦化后处理应用中对聚乙烯缩醛刷的粘附：实验与多尺度模拟

钼化学机械平坦化用绿色可持续缓蚀剂：含硫氨基酸的机理研究

铜化学机械抛光中的表面吸附与腐蚀抑制：一项基于第一性原理和数据驱动的研究

电场辅助和流动诱导的二氧化铈纳米颗粒去除模型及其在CMP后清洗中的应用

Anode SHIELD：一种用于高容量阳极的表面杂化中间层，旨在实现安全稳定的锂离子电池（Adv. Funct. Mater. 48/2025）

通过柔性复合集流体的结构设计提升锂金属电池的电化学可逆性

原子尺度和量子力学模拟方法在化学机械平坦化中的应用综述

Anode SHIELD：一种面向安全稳定锂离子电池的高容量阳极表面混合中间层

通过连接实验洞察和DFT模拟，研究用于钼化学机械抛光（CMP）腐蚀控制的氨基酸分子相互作用

通过石墨烯增强的隔板指导均匀和致密的锂沉积，用于高稳定性锂金属电池