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收藏Atomic-Level Stoichiometry Control of Ferroelectric HfxZryOz Thin Films by Understanding Molecular-Level Chemical Physical Reactions通过理解分子层面的化学物理反应对铁电HfxZryOz薄膜进行原子级化学计量比控制
Trinh, NL; Gu, B; Yang, K; Nguyen, CT; Lee, B; Kim, HM; Kim, H; Kang, Y; Park, MH; Lee, HBR
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