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D

Dustin Andersen

indian institute of technology (iit) - hyderabad
H指数:6
被引数:154

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教育背景

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工作经历

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荣誉奖项

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Transition-metal based electrocatalysts: Thickness-dependent hydrogen evolution reaction performance of Ni thin film deposited by plasma-enhanced atomic layer deposition

基于过渡金属的电催化剂：通过等离子体增强原子层沉积法制备的Ni薄膜的厚度依赖性氢气生成反应性能

International Journal of Hydrogen Energy
IF8.3
2026-09-010
PRE
Rad, Alireza Sharifi; Adjeroud, Noureddine; Grysan, Patrick; Roge, Vincent; Michel, Marc; Vergne, Christele; Andersen, Dustin; Boscher, Nicolas; Lunca-Popa, Petru

研究方向

暂未获取到该数据
S
Santhana Eswara
H 指数:21论文数:100被引数:2,169
T
Tom Wirtz
H 指数:29论文数:232被引数:3,374
G
Guido Schmitz
H 指数:41论文数:302被引数:7,323
L
Luca Cressa
H 指数:6论文数:13被引数:121
O
Olivier De Castro
H 指数:12论文数:46被引数:491
N
Nathalie Valle
H 指数:27论文数:114被引数:2,350
Y
Yujiao Li
H 指数:49论文数:338被引数:9,197
B
Baptiste Gault
H 指数:83论文数:949被引数:2.7万
D
Dierk Raabe
H 指数:178论文数:2,321被引数:11.8万
M
Mathieu Gérard
H 指数:7论文数:24被引数:384