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收藏Utilizing hydrolysis resistance of compressed Li3PS4 films to eradicate surface hydroxyls and form conformal coatings through atomic layer deposition利用压缩Li3PS4薄膜的耐水解性消除表面羟基并通过原子层沉积形成保形涂层
Qiao, Ronghan; Yu, Hailong; Ben, Liubin; Tian, Mengyu; Shen, Xiaoyu; Cen, Guanjun; Zhu, Jing; Wang, Qiyu; Zhao, Wenwu; Zhang, Jianru; Huang, Xuejie
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