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J

Jarmo Laakso

Ohio State University
H指数:11
被引数:543

个人简介

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教育背景

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工作经历

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荣誉奖项

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Optimization of High-κ HfO2 Transistor Dielectrics by Atomic Layer Deposition as an Enabler of Novel Thin-Film Circuits and Sensors

通过原子层沉积优化高介电常数HfO2晶体管介质，作为新型薄膜电路和传感器实现的关键技术。

ADVANCED PHYSICS RESEARCH
IF2.8
2025-12-010
OAAI
Forouzmehr, Matin; Pourkheirollah, Hamed; Leite, Fabio; Howard, Elin; Behera, Sunil Kumar; Tewari, Amit; Laakso, Jarmo; Lahtonen, Kimmo; Laia, Cesar A. T.; Parola, A. Jorge; Marrec, Phillipe; Lupo, Donald; Berger, Paul. R.

研究方向

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P
P. Vuoristo
H 指数:48论文数:338被引数:7,696
E
Erkki Levänen
H 指数:0论文数:1被引数:8
J
Jouni Puranen
H 指数:10论文数:24被引数:289
M
Mikko Kylmälahti
H 指数:9论文数:26被引数:382
H
Hao Wang
H 指数:67论文数:393被引数:1.5万
M
Ming Xie
H 指数:24论文数:70被引数:2,039
M
Mikko Pihlatie
H 指数:19论文数:76被引数:1,321
M
Matti Järveläinen
H 指数:7论文数:18被引数:144
M
Mari Honkanen
H 指数:32论文数:166被引数:2,903
L
Leo Hyvärinen
H 指数:14论文数:29被引数:406