D
D. Dellasega
H指数:28
被引数:2,773
个人简介
暂无内容
教育背景
暂无内容
工作经历
暂无内容
荣誉奖项
暂无内容
采用纳秒和飞秒脉冲激光沉积法制备硼基薄膜
铬薄膜的热氧化:初始金属结构的作用
氘等离子体对GyM线性装置中多孔硼和硼-钨层的影响
液态铅中原始和辐照FeCrAlNi涂层的腐蚀行为,该涂层由HiPIMS沉积制备
Materials & Design
IF7.9
用于生长非晶态和晶态钨氮化物层的高功率脉冲磁控溅射离子
通过硅望远镜在0.3-4.7 MeV范围内评估p-11B反应截面
与液态锡接触的HiPIMS钨和钨铝涂层的耐腐蚀性
CHEMSUSCHEM
IF6.6
通过离子注入在托卡马克中存在的重沉积类W涂层的氘负载
VACUUM
IF3.9
通过x射线衍射探测纳米结构氧化锰薄膜的退火诱导相演变
SCIENTIFIC REPORTS
IF3.9

