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A. Jorge Parola

NOVA University Lisbon
H指数:35
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Optimization of High-κ HfO2 Transistor Dielectrics by Atomic Layer Deposition as an Enabler of Novel Thin-Film Circuits and Sensors

通过原子层沉积优化高介电常数HfO2晶体管介质,作为新型薄膜电路和传感器实现的关键技术。

2025-12-010
OAAI