K
K. Kanishka H. De Silva
H指数:12
被引数:1,693
个人简介
暂无内容
教育背景
暂无内容
工作经历
暂无内容
荣誉奖项
暂无内容
通过氧化铈掺杂提高磺化聚偏氟乙烯质子传导膜的电化学稳定性
CHEMSUSCHEM
IF6.6
ACS OMEGA
IF4.3
通过化学还原和乙醇辅助缺陷修复相结合的高质量单层还原氧化石墨烯薄膜
声子散射的选择性增强导致氧化石墨烯封装的ZnO纳米复合材料具有较高的热电品质因数
用于海水淡化的还原氧化石墨烯膜的制备

