M
Michael Shandalov
H指数:16
被引数:844
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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微量添加U和Th对Al-0.09Sc (at。%) 合金析出强化的影响
半导体-绝缘体-半导体异质结中界面氧化物厚度的后生长控制
SCIENTIFIC REPORTS
IF3.9
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微量添加U和Th对Al-0.09Sc (at。%) 合金析出强化的影响
半导体-绝缘体-半导体异质结中界面氧化物厚度的后生长控制