L
Langping Wang
H指数:19
被引数:956
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
暂无内容
通过优化脉冲直流磁控溅射在金薄膜中实现的近体密度和亚纳米粗糙度
Vacuum
IF3.9
Zn中间层对AZ91D/T2异种金属超声点焊接头微观结构演化的影响研究
通过脉冲偏压PECVD实现添加剂超平滑:在纳米级粗糙衬底上达到埃级粗糙度
高Tc Nb3Sn薄膜在800 °C以下的制备:一种实现铜腔应用的HiPIMS方法
增强型X射线定时与偏振任务—eXTP,计划于2030年发射
通过紫外纳秒激光工程微结构中间层提升摩擦纳米发电机的性能
DEFENCE TECHNOLOGY
IF5.9
DEFENCE TECHNOLOGY
IF5.9

