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D

Douglas Stauffer

bruker hysitron
H指数:18
被引数:1,506

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教育背景

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工作经历

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荣誉奖项

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Highly ductile amorphous oxide at room temperature and high strain rate

在室温和高应变率下具有高延展性的非晶氧化物

SCIENCE
IF45.8
2019-11-15128
OAAI
Frankberg, Erkka J.; Kalikka, Janne; Ferre, Francisco Garcia; Joly-Pottuz, Lucile; Salminen, Turkka; Hintikka, Jouko; Hokka, Mikko; Koneti, Siddardha; Douillard, Thierry; Le Saint, Berangere; Kreiml, Patrice; Cordill, Megan J.; Epicier, Thierry; Stauffer, Douglas; Vanazzi, Matteo; Roiban, Lucian; Akola, Jaakko; Di Fonzo, Fabio; Levanen, Erkki; Masenelli-Varlot, Karine

研究方向

暂未获取到该数据
E
Eric Hintsala
H 指数:13论文数:63被引数:738
B
Brad Boyce
H 指数:59论文数:508被引数:1.0万
A
Antonio J. Ramírez
H 指数:50论文数:377被引数:1.0万
D
Daniel Sorensen
H 指数:2论文数:5被引数:37
K
Karine Masenelli‐Varlot
H 指数:32论文数:148被引数:2,947
J
Jason R. Trelewicz
H 指数:22论文数:122被引数:2,719
O
Oleg Rubel
H 指数:30论文数:172被引数:3,554
J
Jason C. Myers
H 指数:13论文数:26被引数:448
R
Robert C. Mawhinney
H 指数:14论文数:61被引数:732
W
Wely B. Floriano
H 指数:21论文数:53被引数:1,995