P
Pavel Moskovkin
H指数:15
被引数:542
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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基于模型的磁控溅射反应器分析:工艺条件对单靶和多靶设计的影响
关于磁控溅射涂层在开孔3D泡沫上生长机制的多尺度综合研究
Progress in Energy
IF9.8
通过磁控溅射实现薄膜的自由生长以促进微观结构的绽放
高熵TiAlTaN涂层通过HIPIMS沉积法制备用于切削刀具:实验、模拟和切削测试
通过非反应性直流磁控溅射从合金靶制备致密且坚硬的类无定形SiC涂层:高热稳定性和抗氧化性
MATERIALIA
IF2.9
OPTICS EXPRESS
IF3.3

