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Yueli Chen

chemistry department
H指数:6
被引数:189

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Comparison of the MOCVD growth and properties of wafer-scale transition metal dichalcogenide epitaxial monolayers

MOCVD生长和晶圆级过渡金属硫属化合物外延单层的比较及其特性

2D Materials
IF4.3
2025-08-130
OAAI
Tanushree H Choudhury; Nicholas Trainor; Chen Chen; Mikhail Chubarov; Saiphaneendra Bachu; Kasra Momeni; James Spencer Lundh; Danielle Reifsnyder Hickey; Tianyi Zhang; Amritanand Sebastian; Haoyue Zhu; Baokun Song; Yueli Chen; Benjamin Huet; Anushka Bansal; Sukwon Choi; Nasim Alem; Mauricio Terrones; Deep Jariwala; Saptarshi Das; Joan M Redwing

研究方向

暂未获取到该数据
Z
Zahra Fakhraai
H 指数:34论文数:188被引数:4,006
D
Deep Jariwala
H 指数:69论文数:354被引数:2.7万
B
Baokun Song
H 指数:16论文数:29被引数:984
H
Honggang Gu
H 指数:29论文数:152被引数:2,645
S
Shiyuan Liu
H 指数:48论文数:733被引数:9,918
D
Dong Hyup Kim
H 指数:9论文数:32被引数:279
M
Mallory Gobet
H 指数:26论文数:77被引数:4,069
Z
Zonghoon Lee
H 指数:66论文数:312被引数:1.7万
S
Soon‐Yong Kwon
H 指数:30论文数:145被引数:3,174
G
Gregory K. Robbins
H 指数:57论文数:201被引数:1.3万