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Error correction method for enhanced focus detection accuracy in high-resolution lithography
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DOI：10.1117/12.3091677.png)
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摘要
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提升焦点检测精度对于增强光刻系统分辨率至关重要。在传统的基于光强度设置的方案中，光弹性调制器（PEMs）的滞后非线性以及波片的热致相位漂移严重影响了测量精度，限制了其在高分辨率光刻中的应用。为缓解这些限制，本研究建立了一个包含PEM动态线性化和波片温度协同校准的相位误差补偿框架。首先，开发了一种简化补偿模型，通过根据驱动电压变化率动态调整相位延迟来减轻PEM的滞后效应。其次，通过校准温度漂移系数获取波片的延迟相位，并通过二次温度补偿策略进行增强。在光刻条件下的仿真结果表明，PEM的相位延迟波动和波片的相位偏移显著降低，从而将焦点检测精度提高到原始水平的约三倍。该与硬件兼容的方法满足了高分辨率光刻的需求，并为精确焦点检测提供了实用解决方案。
Keyword:
High-resolution lithography
Focus detection
Error correction
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