M
Mikko Nisula
H指数:15
被引数:1,061
个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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p型导电铜-硫-有机配位聚合物薄膜的原子/分子层沉积及其在热电应用中的研究
新型二硫代乙二酰胺衍生物作为ALD/MLD应用的极具潜力的前驱体
Dalton Trans.
IF3.3
LANGMUIR
IF3.9
等离子体增强原子层沉积 (氮掺杂) Ti磷酸盐涂层以改善锂离子电池中的能量存储
DALTON TRANSACTIONS
IF3.3
使用硼酸三甲酯作为掺杂剂前体的局部硼和氢掺杂氧化铝的原子层沉积
DALTON TRANSACTIONS
IF3.3
ALD/MLD制备高功率薄膜电池的原位锂醌阴极
s区金属羧酸盐配位网络薄膜的原子/分子层沉积
在铜酸盐的重度过掺杂状态下,在84 K处具有体超导性
PHYSICAL REVIEW B
IF3.7
原子/分子层沉积对苯二甲酸锂薄膜作为高倍率锂离子电池负极
NANO LETTERS
IF9.1

