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收藏Atomic-Level Stoichiometry Control of Ferroelectric HfxZryOz Thin Films by Understanding Molecular-Level Chemical Physical Reactions通过理解分子层面的化学物理反应对铁电HfxZryOz薄膜进行原子级化学计量比控制
Trinh, NL; Gu, B; Yang, K; Nguyen, CT; Lee, B; Kim, HM; Kim, H; Kang, Y; Park, MH; Lee, HBR
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收藏HfO2-based ferroelectric synaptic devices: challenges and engineering solutions (vol 61, pg 3061, 2025)
Kwon, Taegyu; Choi, Hyeong Seok; Lee, Dong Hyun; Han, Dong Hee; Cho, Yong Hyeon; Jeon, Intak; Jung, Chang Hwa; Lim, Hanjin; Moon, Taehwan; Park, Min Hyuk
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