arrow
返回
O

Oili Ylivaara

vtt technical research center finland

16H指数
90论文数
904被引数
收录论文 6
发表时间
Intercalation of Lithium Ions from Gaseous Precursors into β-MnO2 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition
err2019-06-03
err12
errOAAI
errNieminen, Heta-Elisa; Miikkulainen, Ville; Settipani, Daniel; Simonelli, Laura; Hoenicke, Philipp; Zech, Claudia; Kayser, Yves; Beckhoff, Burkhard; Honkanen, Ari-Pekka; Heikkila, Mikko J.; Mizohata, Kenichiro; Meinander, Kristoffer; Ylivaara, Oili M. E.; Huotari, Simo; Ritala, Mikko
err分享
err收藏
Microelectrode Array With Transparent ALD TiN Electrodes
err2019-03-22
err23
errOAAI
errRyynanen, Tomi; Pelkonen, Anssi; Grigoras, Kestutis; Ylivaara, Oili M. E.; Hyvarinen, Tanja; Ahopelto, Jouni; Prunnila, Mika; Narkilahti, Susanna; Lekkala, Jukka
err分享
err收藏
Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition of SiO2 Using Carbon Dioxide
err2019-02-12
err12
errOAAI
errZhu, Zhen; Sippola, Perttu; Ylivaara, Oili M. E.; Modanese, Chiara; Di Sabatino, Marisa; Mizohata, Kenichiro; Merdes, Saoussen; Lipsanen, Harri; Savin, Hele
err分享
err收藏
Nanotribological, nanomechanical and interfacial characterization of atomic layer deposited TiO2 on a silicon substrate
errWEAR
IF6.1
err2015-11-01
err15
errOAAI
errLyytinen, Jussi; Liu, Xuwen; Ylivaara, Oili M. E.; Sintonen, Sakari; Iyer, Ajai; Ali, Saima; Julin, Jaakko; Lipsanen, Harri; Sajavaara, Timo; Puurunen, Riikka L.; Koskinen, Jari
err分享
err收藏
Silicon full wafer bonding with atomic layer deposited titanium dioxide and aluminum oxide intermediate films
err2012-12-01
err16
PREAI
errPuurunen, R. L.; Suni, T.; Ylivaara, O. M. E.; Kondo, H.; Ammar, M.; Ishida, T.; Fujita, H.; Bosseboeuf, A.; Zaima, S.; Kattelus, H.
err分享
err收藏