未登录Metrology for the next generation of semiconductor devices (vol 1, pg 532, 2018)
Orji, N. G.; Badaroglu, M.; Barnes, B. M.; Beitia, C.; Bunday, B. D.; Celano, U.; Kline, R. J.; Neisser, M.; Obeng, Y.; Vladar, A. E.
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收藏Metrology for the next generation of semiconductor devices下一代半导体器件的计量
Orji, N. G.; Badaroglu, M.; Barnes, B. M.; Beitia, C.; Bunday, B. D.; Celano, U.; Kline, R. J.; Neisser, M.; Obeng, Y.; Vladar, A. E.
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收藏Benefits of XPS nanocharacterization for process development and industrial control of thin SiGe channel layers in advanced CMOS technologies
Fauquier, L.; Pelissier, B.; Jalabert, D.; Pierre, F.; Hartmann, J. M.; Roze, F.; Doloy, D.; Le Cunff, D.; Beitia, C.; Baron, T.
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