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收藏The Study of Reactive Ion Etching of Heavily Doped Polysilicon Based on HBr/O2/He Plasmas for Thermopile Devices基于HBr/O2/He等离子体的重掺杂多晶硅反应离子刻蚀热电堆器件的研究
Zhou, Na; Li, Junjie; Mao, Haiyang; Liu, Hao; Liu, Jinbiao; Gao, Jianfeng; Xiang, Jinjuan; Hu, Yanpeng; Shi, Meng; Ju, Jiaxin; Lei, Yuxiao; Yang, Tao; Li, Junfeng; Wang, Wenwu
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