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A. Chambers

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4H指数
7论文数
183被引数
收录论文 1
发表时间
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Silicon micromachining using a high-density plasma source
errJOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS
IF3.2
err2001-09-05
err165
PREAI
errMcAuley, SA; Ashraf, H; Atabo, L; Chambers, A; Hall, S; Hopkins, J; Nicholls, G
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研究方向

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合作学者
合作期刊
S
S. Hall
H 指数: 23 · 论文数: 177
J
J. Hopkins
H 指数: 12 · 论文数: 30
H
Hamza Ashraf
H 指数: 10 · 论文数: 96
G
Glenn Nicholls
H 指数: 4 · 论文数: 7
S
Serrita A. McAuley
H 指数: 4 · 论文数: 6
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