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Shuofeng Liang

chinese academy of sciences

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Designing Resists for Nanoimprint Lithography Enabling Functional Patterning设计用于纳米压印光刻的刻蚀胶以实现功能化图案化
errChinese Journal of Chemistry
IF5.5
err2026-02-01
err0
PREAI
errYu, Haomin; Xu, Muhuan; Xu, Wen-Cong; Liang, Shuofeng; Wu, Si
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研究方向

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合作学者
合作期刊
S
Si Wu
H 指数: 58 · 论文数: 289
M
Muhuan Xu
H 指数: 2 · 论文数: 5
H
Haomin Yu
H 指数: 0 · 论文数: 3
W
Wen‐Cong Xu
H 指数: 0 · 论文数: 2
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