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H

Huidong Dai

Northeastern University
H指数:5
被引数:65

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工作经历

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荣誉奖项

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Exploring the Role of an Electrolyte Additive in Suppressing Surface Reconstruction of a Ni-Rich NMC Cathode at Ultrahigh Voltage via Enhanced In Situ and Operando Characterization Methods

通过增强的原位和操作表征方法探索电解质添加剂在超高压下抑制富镍NMC阴极表面重建的作用

ACS APPLIED MATERIALS & INTERFACES
IF8.2
2024-02-093
OAAI
Dai, Huidong; Gomes, Luisa; Maxwell, Derrick; Zamani, Somayeh; Yang, Kevin; Atienza, Dianne; Dale, Nilesh; Mukerjee, Sanjeev

研究方向

暂未获取到该数据
S
Sanjeev Mukerjee
H 指数:87论文数:517被引数:2.8万
L
Luisa Gomes
H 指数:4论文数:14被引数:511
T
Tongtai Ji
H 指数:14论文数:33被引数:593
R
Ruizhi Dong
H 指数:5论文数:22被引数:162
G
Gaind P. Pandey
H 指数:32论文数:73被引数:4,016
A
Aswin kumar Anbalagan
H 指数:14论文数:54被引数:844
J
Jochem Struppe
H 指数:29论文数:99被引数:2,590
G
Ge, Huanyao
H 指数:0论文数:2被引数:0
R
R. S. Besser
H 指数:21论文数:80被引数:1,282
V
Victor Ribeiro Sanctis
H 指数:1论文数:7被引数:5