K
Krishna Kumar Saxena
H指数:19
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个人简介
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教育背景
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工作经历
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荣誉奖项
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面向多功能机床的混合电化学去除与沉积工艺兼容性分析:一种应用导向方法
微尺度陶瓷喷嘴通过电解质限制的射流电化学沉积制备金属微结构
通过流体动力学模拟和实验,通过电解质限制推进射流电化学加工的过程理解和定位
PHYSICS OF FLUIDS
IF4.3
在没有侵蚀性试剂的情况下,在中性电解质中对先进材料进行激光-ECM混合加工: 加工性能,去除特性和可持续性方面
钝化多相nbc-ni金属陶瓷的ECM/混合激光-ECM过程中的宏观和微观材料去除机制
微电化学加工 (ECM) 技术的工具方面: 设计,功能和制造路线
通过受限电解质提高射流电化学增材微制造过程中的形状精度
液体限制技术在射流电化学增材制造中的定位
在基于工具的混合激光-电化学微加工过程中,靠近电极间间隙的实时机器观察
SCIENTIFIC REPORTS
IF3.9

