S
S. J. Shin
H指数:23
被引数:3,427
个人简介
暂无内容
教育背景
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工作经历
暂无内容
荣誉奖项
暂无内容
高功率脉冲磁控溅射沉积碳化硼:使用全表面侵蚀磁控溅射靶和Ar-Ne混合等离子体
惯性约束聚变用旋转基片上溅射沉积超厚Bi涂层
Vacuum
IF3.9
基底偏压和倾角对磁控溅射碳化硼薄膜的影响
采用直流磁控溅射法组合沉积用于下一代霍拉姆腔的超厚Ta-W-Au-Bi高熵合金
在倾斜基板上的低应力碳化硼薄膜的高速率磁控溅射沉积
采用直流磁控溅射高速沉积超厚铋薄膜
Vacuum
IF3.9
TALANTA
IF6.1
NATURE COMMUNICATIONS
IF15.7

