G. V. Taylor

倾斜基底上硼碳化物薄膜磁控溅射沉积的放电功率效应

高功率脉冲磁控溅射沉积碳化硼：使用全表面侵蚀磁控溅射靶和Ar-Ne混合等离子体

惯性约束聚变用旋转基片上溅射沉积超厚Bi涂层

基底偏压和倾角对磁控溅射碳化硼薄膜的影响

采用直流磁控溅射法组合沉积用于下一代霍拉姆腔的超厚Ta-W-Au-Bi高熵合金

在倾斜基板上的低应力碳化硼薄膜的高速率磁控溅射沉积

氢对溅射沉积碳化硼薄膜的影响

采用直流磁控溅射高速沉积超厚铋薄膜

基于第一性原理的模拟：关联X射线吸收谱特征与h-BN中的点缺陷